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工业纯水设备的工艺与作用
工业纯水设备是用于工业生产用水的纯水制取装置。工业纯水设备可以用于:饮用水、瓶装水、食品工业用水、半导体工业、精细化工、光学工业用水、电镀用水、医药用水、透析医疗用水、电解器生产用水、电容器生产用水、打印机墨水用去离子水等代替各类蒸馏水及超纯水供水等。
工业纯水设备的工艺:水在电子工业尤其是电子元器件生产中的重要作用日益突出,纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品合格率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高。在电子元器件生产中,高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途不同,因此对水质的要求也不同。
预处理系统-反渗透系统-中间水箱-混合床-纯水箱-用水对象 (≥15MΩ.CM)
电镀纯水设备:预处理-一级反渗透-中间水箱-加药机(PH调节-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精密过滤器-EDI装置-超纯水箱-用水对象(≥15MΩ.CM)
化工纯水设备:原水泵-砂滤器-碳滤器-阳离ぷ子交换器-阴离子交换器(常见老工艺)
医用╳纯化水设备:预处理-一级反渗透)-中间水箱-加药机(PH调节-二级反渗透-无菌水箱(加臭氧)-纯水泵-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(全不锈钢制∩作)
在电解电容器生产中,铝箔及工作件的清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电。在电子管生产中,电子管阴极涂敷碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧◣光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。与传统的水处理技术相比,膜技术具有工艺简单、操作方便、易于自动控制、能耗小、无污染、去除杂质效率高、运行成本低等优点,特别是几种膜技术的配@合使用,再辅之以其他水处理工艺,如石英砂过滤、活性炭吸附、脱气、离子交换、UV杀菌等,为去除水中的各种杂质,满足日益发展的电子工业对高纯水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有应用了多种膜技术,才能生产出合格、稳定的高纯水,才能生产出大规模、超大规模、甚大规模集成电路(LSI、VLSI、ULSI),从而使计算机、雷达、通讯、自动控制等现代电子工业的发展和应用得以实现。值得一提的是:当原水的含盐量大于400mg/L时,纯水制造的除盐工序采用RO-离子交换工艺后,比早先单用离子交换可节约酸≡、碱约90%左右,使离子交换柱的周期产水量提高10倍左右,事实证明,可以降低纯水制造的运行费用和制水成本,可以减少工人的劳动强度,可以减少对环境的污染,并可使纯水水质得到提高并长期稳定。据统计,在我国电子工业引进的纯水制造系统中,有RO的约占系统总数的90%,有UF的约占20%,有MF的几乎为100%,而ED在我国国产的纯水系统特别是早》期投产的纯水系统,以及为数众多的对纯水水质要求不高的一般电子元器件(如电阻、电容、黑白显像管、电子管等)制造厂的纯水系统中№占有相当的比例。
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